Fotolithografie gebruikt drie basisprocesstappen om een patroon over te brengen van een masker naar een wafel: coaten, ontwikkelen, blootleggen. Het patroon wordt tijdens een volgend proces overgebracht naar de oppervlaktelaag van de wafel. In sommige gevallen kan het resistpatroon ook worden gebruikt om het patroon voor een afgezette dunne film te definiëren.
Wat is fotolithografie Hoe werkt het?
Fotolithografie is een patroonproces waarbij een lichtgevoelig polymeer selectief wordt blootgesteld aan licht door een masker, waardoor een latent beeld in het polymeer achterblijft dat vervolgens selectief kan worden opgelost om een patroon te verkrijgen toegang tot een onderliggend substraat.
Waarom wordt fotolithografie gebruikt?
Fotolithografie is een van de belangrijkste en gemakkelijkste methoden voor microfabricage en wordt gebruikt om gedetailleerde patronen in een materiaal te maken. Bij deze methode kan een vorm of patroon worden geëtst door selectieve blootstelling van een lichtgevoelig polymeer aan ultraviolet licht.
Waarom wordt UV-licht gebruikt in fotolithografie?
Fotolithografie maakt 3D-inkapseling van cellen in hydrogels mogelijk door het celbevattende prepolymeer onder UV-licht te verknopen. Een fotomasker wordt gebruikt om het gewenste patroon te verkrijgen [88].
Wat zijn de vereisten voor fotolithografie?
In het algemeen vereist een fotolithografieproces drie basismaterialen, lichtbron, fotomasker en fotoresist. Fotoresist, een lichtgevoelig materiaal,heeft twee soorten, positief en negatief. De positieve fotoresist wordt beter oplosbaar na blootstelling aan een lichtbron.
Photolithography: Step by step
